中国目前光刻机处于怎样的水平？

关于国产光刻机目前处于什么水平，网上的各种消息让人搞的有点乱。一边有人说我们的光刻机仍然处于90nm水平，一边又有人说我们的光刻机已经处于5nm水平了，国产光刻机究竟什么水平？

国产光刻机目前什么水平关于这个90nm和5nm水平，大部分是混杂了两个机器，虽然这两个机器名字只有一字之差，但是它所代表的意义就大不相同。

国产光刻机水平：目前是90nm水平，其它更加先进的仍然处于实验室阶段，想要实现商用还需要很长一段时间。

2018年时中科院的“超辨认光刻装备研制”通过验收，它的光刻辨认力达到22nm，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。

但是这也是仅仅处于实验室阶段，也就是想要真正的投进商用还是需要很长一段时间。

国产蚀刻机水平：中微半导体做的蚀刻机已经达到了5nm水平，也得到了台积电的相关认证，可以说是非常领先的。

这里大部分人就是混杂了这个光刻机和蚀刻机两个概念，虽然它们只有一字之差，但是意义却大不相同。全球能做顶级蚀刻机的有好几家，而能做最顶级光刻机的只有荷兰的ASML一家。

光刻机和蚀刻机在芯片生产过程中，光刻机相当于在一块晶圆上复印了一张画的图案（也就是芯片内部电路图的图案）而蚀刻机作用就是把光刻机复印的图案进行雕刻。

相比于光刻机，蚀刻机的地位并不是非常的重要，因为全球领域能做顶级蚀刻机的有好几家厂商，能做顶级光刻机的只有ASML一家独大。佳能和尼康也可以做光刻机，但是与ASML根本不是一个级别的。

可以说在芯片生产过程中，光刻机相当于一个人体的头部起着掌握造用，而蚀刻机只能说是人体的四肢。脑部有抉择性，它可以不用你这个四肢，也就是换用其它家的顶级蚀刻机，而光刻机就独此一家。

能不能拆解复制光刻机笔者前段时间在刷短视频时，刷到了三星西安工厂订购的ASML光刻机在西安国际机场进行卸货，下面都在评论说直接给它扣下来用于拆解复制。

其实这是一个非常愚蠢至极想法，它不仅仅影响的我们国家的国际影响，也让其它国家不再敢和我们进行协作。

并且三星西安工厂主要是生产内存颗粒，它用的光刻机并不是荷兰ASML生产的顶级光刻机，扣下来也做不了顶级芯片。也可以这么往说，就算你把它扣下来，虽然机器在我们手上，但是和废铁并没有什么两样。

这种机器都安装了各种保护，高精度的电子陀螺仪，一旦机器出现移动以及有拆解动作就会远程自动锁机。想要解锁只能往找厂商人员进行解决，也需要重新调试。

这一点在一些高端进口机床上也是如此，机器想要移动位置，必须提前进行报备，由厂家工程师进行解决。假如自己未经厂商答应移动了位置，只会是被锁机。

结语光刻机所需要的核心部件都是全球顶级厂商提供，这些部件很多我们国内水平是达不到的。例如光刻机的镜头，是由德国的蔡司公司提供，需要经过几十年甚至上百年的技术积存沉淀。

而我们在光刻机领域仍需要进行努力，加大科研投进，重视人才，集体合心，仍然会取得重要突破。

这里也要说一下，并不是90nm光刻机就什么也用不了。很多芯片仍然需要它来进行加工，例如手机上的蓝牙芯片、射频芯片、功放芯片、电源治理芯片等，以及日常所用的路由器芯片、各种电器驱动芯片等需要用到这种光刻机。

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